國內EDA行業領導者，芯和半導體科技（上海）有限公司（以下簡稱“芯和半導體”）宣布，其片上無源電磁場（EM）仿真套件已成功通過三星晶圓廠的8納米低功耗（8LPP）工藝技術認證。該套件包含了快速三維電磁場仿真器IRIS和快速自動PDK建模工具iModeler，此次認證能顯著地提升IC設計公司在8LPP工藝上的設計交付速度。

三星晶圓廠的8LPP工藝在其上一代FinFET先進節點的基礎上，對功率、性能和面積作了進一步的優化。 對于移動、網絡、服務器、汽車和加密貨幣等應用，8LPP提供了明顯的優勢，并被認為是眾多高性能應用中最具吸引力的工藝節點之一。

“隨著先進工藝節點設計復雜性的不斷增加，精確的EM仿真對于我們的客戶獲得一次性芯片設計流片成功變得至關重要。” 三星電子設計Design Enablement團隊副總裁Jongwook Kye說：“芯和半導體的三維全波EM套件的成功認證，將為我們共同的客戶在創建模型和運行EM仿真時創造足夠的信心。”

芯和半導體的首席執行官凌峰博士表示：“我們非常高興IRIS能夠實現仿真與測試數據的高度吻合，并因此獲得了三星 8LPP工藝認證。作為三星先進制造生態系統（Samsung Advanced Foundry Ecosystem，SAFE）項目的成員，芯和半導體將繼續與三星在各種工藝技術上進行深入合作，為我們共同的客戶提供創新的解決方案和服務。

IRIS采用了為先進工藝節點量身定做的最先進的EM仿真技術，它提供了從DC到THz的精確全波算法，并通過多核并行計算和分布式處理實現仿真效率的加速。IRIS擁有多項匹配先進工藝節點的特定功能，包括可以考慮線寬線距在加工時的偏差等，因此被多家設計公司廣泛采用。iModeler能夠通過內置豐富的模板及快速的IRIS仿真引擎自動生成PDK，它能幫助PDK工程師和電路設計工程師快速生成參數化模型。