真空鍍膜工藝簡單,要求真空度高,要有10的負次方才能鍍的牢固有光澤.沒聽說過三溫區.主要是電極的低壓大電流產生的高溫熔化鋁絲.別無高溫.外殼最好用水冷卻.

關于半導體鍍膜工藝中,我們現在要的是InSb,看過一篇國外的資料有過,是個日本人寫的,他用的三溫區法

你要鍍什么?鍍眼鏡片我倒是會,用的是氧化鋯和氟化鎂.400度高溫,真空度好像是1.3x10的負10次方吧.,用鎢片和鉬片盛放氧化鋯和氟化鎂.通12V低壓電流可調的300A電流源,使化學材料蒸發鍍到鏡面上.要求鏡面極其干凈.

給大家參考一下.

請教:鍍膜時有一個“轟擊”的工藝是干嗎的?好象是在抽完真空后的一項工藝,當轟擊時能看到內部有輝光的感覺.

您好,有急事向您請教,希望能聯系上您,謝謝,我的電話13564516979,李生

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