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海飛樂技術IGBT模塊現貨替換DF160R12W2H3F_B11

海飛樂技術IGBT模塊現貨替換DF160R12W2H3F_B11。

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    在模塊封裝技術方面,國內基本掌握了傳統的焊接式封裝技術,其中中低壓模塊封裝廠家較多,高壓模塊封裝主要集中在南車與北車兩家公司。與國外公司相比,技術上的差距依然存在。國外公司基于傳統封裝技術相繼研發出多種先進封裝技術,能夠大幅提高模塊的功率密度、散熱性能與長期可靠性,并初步實現了商業應用。

  IGBT是將強電流、高壓應用和快速終端設備用垂直功率MOSFET的自然進化。由于實現一個較高的擊穿電壓BVDSS需要一個源漏通道,而這個通道卻具有很高的電阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)數值高的特征,IGBT消除了現有功率MOSFET的這些主要缺點。雖然最新一代功率MOSFET 器件大幅度改進了RDS(on)特性,但是在高電平時,功率導通損耗仍然要比IGBT 技術高出很多。較低的壓降,轉換成一個低VCE(sat)的能力,以及IGBT的結構,同一個標準雙極器件相比,可支持更高電流密度,并簡化IGBT驅動器的原理圖。

  IGBT阻斷與閂鎖

  當集電極被施加一個反向電壓時, J1 就會受到反向偏壓控制,耗盡層則會向N-區擴展。因過多地降低這個層面的厚度,將無法取得一個有效的阻斷能力,所以,這個機制十分重要。另一方面,如果過大地增加這個區域尺寸,就會連續地提高壓降。 第二點清楚地說明了NPT器件的壓降比等效(IC 和速度相同) PT 器件的壓降高的原因。

當柵極和發射極短接并在集電極端子施加一個正電壓時,P/N J3結受反向電壓控制,此時,仍然是由N漂移區中的耗盡層承受外部施加的電壓。

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